穿透式電子顯微鏡

磁體製作的新里程碑

磁體製作的新里程碑
國立臺灣大學科學教育發展中心特約編譯葉承効/臺灣大學科學教育發展中心陳藹然博士責任編輯

磁體在現今的許多產業中,都佔有重要角色,但磁體製作所面對的問題是材料的取得問題。(圖片來源:Hi-Res Images of Chemical Elements)

磁體在現今的許多產業中,都佔有重要角色,如通訊、電子、發電等產業都需要大量的磁體作為配件。但磁體製作所面對的問題是材料的取得問題。現今的磁體都需要具備體積小、效能高且又有足夠的穩定性。而這樣的磁體大多需要釹(neodymium)、鏑(dysprosium)等稀土金屬(rare-earth metal)為原料,但是這些金屬的產量極少,也造成製作成本水漲船高。在製作過程中,又要同時配合許多高科技條件的配合,如奈米粒子、高溫與濺鍍(sputtering)技術,才能製成品質較佳的磁體。

現在許多磁體研究者,為了因應原料價格飛漲與市場壟斷的隱憂,也分別開發不同的磁體製作方式。2013年1月在波士頓所舉辦的材料研究研討會中,研究成果顯示學者們並非是著重在稀土金屬製作磁體過程的創新,而是從製作過程的精準性下手。

穿透式電子顯微鏡

穿透式電子顯微鏡 (Transmission Electron Microscopy:TEM)
國立彰化師範大學物理所陳建淼研究生/國立彰化師範大學物理學系洪連輝教授責任編輯

A.TEM簡介

自1930年代第一台商用電子顯微鏡於英國建立以來,由於影像解析度受限於所供輸電子能量,隨著高壓設備之成熟技術發展與建立,穿透式電子顯微鏡不斷地進步與突破。1938年,穿透式電子顯微鏡,解析度約20~30埃,到1963年,解析度提升至2~3埃;到目前為止,一百萬電子伏特(eV)以上之超高電壓穿透式電子顯微鏡也已問世(HRTEM)。