發光二極體(Light Emitting Diode)

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發光二極體Light Emitting Diode)
國立彰化師範大學光電科技研究所張淑貞研究生/國立彰化師範大學洪連輝教授責任編輯

發光二極體本質上是一pn接面二極體,典型上由直接能隙半導體構成,其電子電洞對(EHP)復合,並造成放射出光子,射出光子能量因此近似於能隙能量,圖顯示一個未加偏壓pn+接面元件能帶圖,其中n側相較於p側為重摻雜,能帶圖繪製時,須讓整個元件的費米能階維持一樣,這個要求是在平衡且不加外加偏壓下。pn+元件的空乏區主要延伸到p區,從n側Ec到p側Ec,有一位能障eVo,那是△Ec=eVo,其中Vo是內建電壓,在n側高濃度的導電即自由電子,使得導電電子由n側擴散到p側,然而,靜電子擴散被電子PE位障eVo阻止。

外加一順向偏壓V,這個電壓降跨於空乏區,因為這是元件主要的電阻部份,當內建電未Vo=Vo-V,並允許n+的電子擴散注入到p側,注入電子在空乏區和中性p側復合導致光子自發發射,主要復合發生在空乏區內和電子擴散長度所示在p側體積內,這復合區經常被稱為主動區,光從EHP復合而發出的現象,是源自於少數載子注入,並被稱為電激發光,由於電子和電洞復合的統計本質,所發射的光子為隨意方向,是因為源自於自發發射過程,使得所發射的光子能從元件拖哩,而不被半導體材料再吸收。

LED典型由磊晶成長摻雜半導體層在一合適的基板上構成,此平面型pn接面,由先磊晶成長n層,然後為p層構成,基板實質上用來作為pn接面的機械支承,並可以為不同的材料,p側位於光發出的表面,因此做成狹窄大約幾個微米以允許光子脫離而沒有被再吸收;為了確定主要的復合發生在p側,n側需要重摻雜,那些往n側發射的光子,會被吸收或從基板界面反射回到表面,取決於基板厚度及LED的確切結構。假如磊晶層和基板晶體有不同晶格參數,則有一晶格不匹配於這兩晶體結構間,這造成晶格應力在LED層,並因此造成晶格缺陷,這樣的晶體缺陷會增加EHP非輻射的復合,缺陷可充當一復合中心;缺陷的減少可藉由晶格匹配LED磊晶曾到基板晶體,因此晶格匹配LED層到基板晶體是重要的。

參考資料:光電子學與光子學-原理與應用

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